掩模对准曝光机又名光刻机，用光来制作一个图形工艺，将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程。半导体制造过程中复杂也是难的步骤就是光刻，光刻机也因此成为重要的半导体制造设备，研发的技术门槛和资金门槛非常高，是复杂的机器之一。

 

　　掩模对准曝光机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

　　1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

　　2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；

　　3、自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

　　掩模对准曝光机的对准系统：

　　制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产设备*的技术难点之一，许多美德品牌的设备具有特殊的机械工艺设计。

　　对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多的设备，采用了LED照明。

　　对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对。

　　CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。

　　工件台顾名思义就是放工件的平台，光刻工艺主要的工件就是掩模和基片。

　　工件台为掩模对准曝光机的一个关键，由掩模样片整体运动台（XY）、掩模样片相对运动台（XY）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。

　　其中，样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。

　　样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。

　　抽拉掩模台主要用于快速上下片，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。

　　承片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。